本文標題："金屬沉積顆粒共析度樣品分析顯微鏡"
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金屬沉積顆粒共析度樣品分析顯微鏡
還必須指出，在一般復合鍍的情況下，兩步吸附與直接吸附都是同時
存在的，只是主次不同而已。對于一個實驗結果符合兩步吸附理論的公式
，并非直接吸附不存在，而更可能的是通過直接吸附及攪拌的影響，使兩
步吸附理論沒考慮的問題(如強吸附脫落等)得以修正，致使結果與理論符
合。還有當攪拌速度較慢，不致使顆粒發生明顯的直接吸附，或者說，當
直接吸附的顆粒與兩步吸附理論中忽略的脫落相當，且通過兩步吸附而得
到的強吸附不太低的情況下，并聯吸附便符合兩步吸附理論所導出的公式
。當攪拌速度較高，被攪拌的顆粒因速度較大，與電極表面的沖擊較大，
被電極有效吸附的機會很小，且經兩步吸附發生強吸附的顆粒也較少，在
這種情況下，往往由于攪拌而引起的吸附與脫落可以相當，從而使結果符
合兩步吸附理論。
并聯吸附理論提出了通過兩個途徑發生強吸附的共析機理，既考慮了
帶電顆粒與界面電場間的電場作用因素，也考慮了攪拌這一力學因素，能
較好地解釋攪拌對顆粒共析度的影響，并將兩步吸附作為并聯吸附中的一
個吸附途徑，引入了兩步吸附理論中成功的因素，因此使假設更符合實際
情況。同時，該理論還提出了時間6因子，能通過時間2這一因子，將攪拌
速度、顆粒尺寸與形狀，及金屬沉積速度等因素有機結合起來，綜合考慮
這些因素對顆粒共析度的影響，因此能較好地反映客觀實際的普遍聯系性
。
盡管人們對復合電沉積機理的研究做了許多工作，但顆粒到達陰極后
，以何種力黏附于其上，然后又是以怎樣的模式被俘獲，對于這樣關鍵性
問題的認識尚不完全清楚。因此，未來的研究重點應該放在顆粒／陰極接
觸區域的局部界面電場和電流密度的變化和分布狀況的精細描述上。
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