本文標題："顯微鏡分析固體材料表面的顯微結構與化學成分"

發布者：yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間：2013-4-23 17:35:15

隨著微電子與奈米科技的發展，材料的結構尺寸不斷地趨于淺薄細微，使得其表面與介面特性的影響度

相對地大幅提高。因此精確量測及分析奈米結構的表面和物體介面的物理化學特性，

是加速此研究領域發展極為重要的工作。X 光光電子能譜術(X-ray PhotoelectronSpectroscopy, XPS,

或稱為化學分析電子能譜術，Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)為

分析固體材料表面的電子結構與化學成分之重要方法。它除了有很高的表面靈敏度以及甚佳的化學分析能力，光

子輻射線對于物質的破壞性較低且電荷的累積效應也較輕微，因此被廣泛地應用于金屬，半導體，非導體以及

有機材料的研究。XPS 之分析功能是藉著各化合物不同化學結合狀態產生之位移

(Chemical state or bonding shift) 來測量的。一般的 ESCA 分析儀器因 X 光光源強度不足，

難以做細微的局部化學分析，在目前商業產品中有改良式電子透鏡的 ESCA 偵測系統，但空間解析度

仍難超越 3 微米左右，其區域解析功能甚為有限。

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