本文標題："購置專業高精度量測儀器-顯微鏡減少輪廓誤差"

購置專業高精度量測儀器-顯微鏡減少輪廓誤差
 
單次電極涂布補正分析
同一芯片一次涂布之電極輪廓經由軟件補正數次后，期望電極輪廓
與芯片邊界對位誤差可以穩定于一范圍內，由實驗結果得知 x1 最大誤
差為 0.0276 mm，y1 最大誤差為 0.0137 mm，θ1 最大誤差為 0.0540°，
雖然最大誤差有較大偏差，但其它數據分布都接近理想值，持續補正
后數值皆趨近穩定，代表軟件補正具有明顯成效。

 兩次電極涂布補正分析
兩次涂布輪廓補正為最后研究成果，兩次輪廓誤差必需降低至 50
μm 內，此一實驗結果得到兩次涂布電極輪廓補正后 x 最大誤差為
0.0093 mm，y 最大誤差為 0.0111 mm，θ 最大誤差為 0.0040°，角度換
算后對應之芯片邊界位移誤差為 0.0052 mm，由數據可得知兩輪廓補
正后誤差降低至設定的目標范圍(50 μm)內，甚至更小，因此可以證明
軟件補正兩次涂布電極輪廓對位誤差有明顯的成效。
綜合以上實驗結果，兩次電極涂布對位誤差經由軟件補正后，誤差皆
降低至 50 μm 內，證明軟件補正有明顯成效。實驗中幾次發生誤差值較大
偏差，必須注意的是，網版與涂布銀膠品質的控管，如此才能確保軟件進
行影像辨識時，能完整辨識出影像邊界，以降低誤差的產生

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